بحث
العربية
  • English
  • 正體中文
  • 简体中文
  • Deutsch
  • Español
  • Français
  • Magyar
  • 日本語
  • 한국어
  • Монгол хэл
  • Âu Lạc
  • български
  • Bahasa Melayu
  • فارسی
  • Português
  • Română
  • Bahasa Indonesia
  • ไทย
  • العربية
  • Čeština
  • ਪੰਜਾਬੀ
  • Русский
  • తెలుగు లిపి
  • हिन्दी
  • Polski
  • Italiano
  • Wikang Tagalog
  • Українська Мова
  • آخرون
  • English
  • 正體中文
  • 简体中文
  • Deutsch
  • Español
  • Français
  • Magyar
  • 日本語
  • 한국어
  • Монгол хэл
  • Âu Lạc
  • български
  • Bahasa Melayu
  • فارسی
  • Português
  • Română
  • Bahasa Indonesia
  • ไทย
  • العربية
  • Čeština
  • ਪੰਜਾਬੀ
  • Русский
  • తెలుగు లిపి
  • हिन्दी
  • Polski
  • Italiano
  • Wikang Tagalog
  • Українська Мова
  • آخرون
عنوان
نسخة
التالي
 

تجاوز الحدود في تصنيع الرقائق الدقيقة: الطباعة بالحفر للأشعة فوق البنفسجية، الجزء 2 من 2‏

تفاصيل
تحميل Docx
قراءة المزيد
In the coming years, the application of microchips will continue to expand, the demand for chips will also continue to grow. However, the traditional 193 nm lithography has reached its limit and must be replaced with its 13.5 nm EUV counterpart. It is generally agreed that EUV lithography is the most difficult technology to perfect in the history of the semiconductor industry — so challenging that it is comparable to NASA’s Moon landing project.
مشاهدة المزيد
جميع الأجزاء (2/2)
مشاهدة المزيد
أحدث مقاطع الفيديو
أخبار جديرة بالاهتمام
2025-02-23
سلسلة متعددة الأجزاء حول لتنبؤات القديمة الخاصة بكوكبنا
2025-02-23
272 الآراء
بين المعلمة والتلاميذ
2025-02-23
216 الآراء
أخبار جديرة بالاهتمام
2025-02-22
380 الآراء
أخبار جديرة بالاهتمام
2025-02-22
243 الآراء
مختصرات
2025-02-22
1523 الآراء
مختصرات
2025-02-22
1150 الآراء
مختصرات
2025-02-22
817 الآراء
مختصرات
2025-02-22
759 الآراء
مشاركة
مشاركة خارجية
تضمين
شروع در
تحميل
الهاتف المحمول
الهاتف المحمول
ايفون
أندرويد
مشاهدة عبر متصفح الهاتف المحمول
GO
GO
Prompt
OK
تطبيق
مسح رمز الاستجابة السريعة، أو اختيار نظام الهاتف المناسب لتنزيله
ايفون
أندرويد